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GE膜污染如何去除?

作者:GE膜     来源:GE膜公司     发布日期:2020-01-19 13:54:46


  GE膜常见污染物有碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、有机沉淀等,具体去除方法如下:

  1、碳酸钙垢

  在阻垢剂添加系统出现故障时或加酸系统故障而导致给水pH升高时,那么碳酸钙就有可能沉积出来,应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生,以防止生长的晶体对膜表面产生损伤,如早期发现碳酸钙垢,可以用降低给水pH至3~5之间运行1~2小时的方法去除。对沉淀时间更长的碳酸钙垢,则应采用无机清洗剂进行循环清洗或通宵浸泡。

  2、硫酸钙垢

  若有硫酸钙垢形成,则有机清洗剂清洗液可有效将硫酸钙垢从GE反渗透膜表面去除掉。

  3、金属氧化物垢

  可以使用上面所述的去除碳酸钙垢的方法,很容易地去除沉积下来的氢氧化物。

  4、有机沉积物

  有机沉积物可以使用有机物清洗液去除。为了防止再繁殖,可使用杀菌溶液在系统中循环、浸泡、一般需较长时间浸泡才能有效,如反渗透装置停用三天时,采用二氧化氯做杀菌消毒处理。

  5、矽垢

任你博  对于不是与金属化物或有机物共生的矽垢,使用抑垢清洗液,可将矽垢从反渗透膜表面有效去除。

  6、清洗液

  确定清洗前对污染物进行化学分析十分重要的,对分析结果的详细分析比较,可保证选择较佳的清洗剂及清洗方法,应记录每次清洗时清洗方法。

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